关键字：工艺 更新时间：2019-11-02 12:19:41 132次访问
影响氧化层电荷密度大小的因素
1 可动离子电荷-指二氧化硅中可动的电离正离子电荷。绝大多数为金属离子电荷和氢正离子。
2 固定氧化物电荷-指二氧化硅中过剩的硅离子或称为氧空位。为固定正电荷。
3 界面陷阱电荷-指二氧化硅中二氧化硅与硅结构的交界处硅的剩余悬挂键。
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